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產(chǎn)品中心全自動超聲波清洗機工藝流程
1、研磨后的清洗
研磨是光學玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量(外觀和精度)的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青,少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異,一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同,選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的,以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設備大致分為兩種: 一種主要使用有機溶劑清洗劑,另一種主要使用半水基清洗劑。
一、全自動超聲波清洗機采用的清洗流程如下:
有機溶劑清洗劑(超聲波)-水基清洗劑(超聲波)-市水漂洗-純水漂洗-IPA(異丙醇)脫水-IPA慢拉干燥。
的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯乙烷屬ODS(消耗臭氧層物質(zhì))產(chǎn)品,處于強制淘汰階段;而長期使用三氯乙烯易導致職業(yè)病,而且由于三氯乙烯很不穩(wěn)定,容易水解呈酸性,因此會腐蝕鏡片及設備。對此,國內(nèi)的清洗劑廠家研制生產(chǎn)了非ODS溶劑型系列清洗劑,可用于清洗光學玻璃;并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標,可有效滿足不同設備及工藝條件的要求。比如在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過程中,鏡片表面有一層很難處理的漆片,要求使用具備特殊溶解性的有機溶劑;部分企業(yè)的清洗設備的溶劑清洗槽冷凝管較少,自由程很短,要求使用揮發(fā)較慢的有機溶劑;另一部分企業(yè)則相反,要求使用揮發(fā)較快的有機溶劑等。
水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物,溶劑對其清洗能力很弱,所以鏡片加工過程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的,故而對水基清洗劑提出了*的要求。以前由于國內(nèi)的光學玻璃水基清洗劑品種較少,很多外資企業(yè)都選用進口的清洗劑。而國內(nèi)已有公司開發(fā)出光學玻璃清洗劑,并成功地應用在國內(nèi)數(shù)家大型光學玻璃生產(chǎn)廠,清洗效果*可以取代進口產(chǎn)品,在腐蝕性(防腐性能)等指標上更是優(yōu)于進口產(chǎn)品。
對于IPA慢拉干燥,需要說明的一點是,某些種類的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印,這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關,另一方面與清洗設備有較大的關系,尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好,需要設備廠家及用戶注意此點。